◆測定事例：濃厚スラリー中の粒子と溶媒の親和性評価

粒子解析で良く使用される光散乱方式(粒度分布測定装置)ではなく､パルスＮＭＲを検出器に採用した全く新しい粒子評価手法です｡

パルスＮＭＲで緩和時間を求め､得られたデータを専用ソフトウェアを用いて解析することでスラリー中粒子の表面状態を把握することが可能になります｡

測定時間が他の方法に比べ迅速な為、1日で多検体の測定も可能です。

下記の図は二種類のカーボンブラック(CBｰA､CBｰB)に対するＮＭＰ(N-メチル-2-ピロリドン)の親和性を緩和速度の変化から調べた結果です｡

スラリー中のＣＢの総表面積に対する緩和速度変化(縦軸)の関係を示しています｡

このグラフの傾きが粒子表面の溶媒に対する親和性を示していますが､CBｰAの方がＮＭＰに対して接触している面積が大きい為､より高い親和性を有していることが分かります｡

下記の図はMw＝114000のPEO(ポリエチレンオキサイト)のポリマー濃度に対する緩和速度変化を示しています｡濃度増大とともに緩和速度も増大していることが分かります｡シリカ表面のPEO吸着量が､濃度増大に伴い増えていることが分かります｡