塗工プロセスによるハイバリア膜の開発及び関連する最新評価法
半導体や情報処理技術、情報通信技術の進化は留まることを知らず、今後も情報処理量を拡大させながら、デジタル技術の活用が競争力の源泉となる時代は続いていくと言われています。
そのような背景のもと、先端半導体の製造工場の新設や増設のための設備投資が活発化してきています。
今回のセミナーではそんな半導体産業の中でも問い合わせが増えつつある最新の評価事例を取り上げさせて頂きました。
具体的にはCMPスラリーのin situ評価、ウェハ洗浄のモニタリング、機械的物性測定等を紹介させ頂きます。
ご興味のある方は是非、この機会にご聴講頂ければ幸いです。
【セミナー概要】
主 催：株式会社アントンパール・ジャパン、LUM Japan株式会社、MSサイエンティフィック株式会社
開催日時：2023年8月3日（木） 13:00 - 16:40
開催形式：WEBセミナー形式 (Zoomウェビナーを使用)
定 員：100名
参 加 費： 無 料
【プログラム】
13:00 - 13:05 セミナー概要説明
13:05 - 13:50 「超音波スペクトロスコピーを用いたCMPスラリーの粒子径
およびゼータ電位のin situ測定
-CMPに関する品質管理手法(米国特許)やDLVO理論の適用例の紹介も兼ねて-」
講師：武田コロイドテクノ・コンサルティング株式会社 武田 真一 先生
13:50 - 14:35 「新製品LUMiSpoc(単一粒子光散乱法)による粒子径分布(個数基準)測定法の紹介」
(＊単一粒子光散乱法：Single Particle Light-Scattering Technology)
講師：武田コロイドテクノ・コンサルティング株式会社 武田 真一 先生
14:35 - 14:45 休 憩
14:45 - 15:30 「ゼータ電位計を用いた研磨至適条件の検討とウェハ洗浄のモニタリング
-分散粒子から固体のゼータ電位測定の原理と評価例紹介-」
講師：株式会社アントンパール・ジャパン
粒子計測プロダクトマネージャー 高木 則一 先生
15:30 - 16:15 「電子デバイスの機械的物性測定と評価事例
-インデンター・スクラッチ試験機を用いた電子デバイス測定事例の紹介-」
講師：株式会社アントンパール・ジャパン
アプリケーションスペシャリスト 森垣 史人 先生
16:15 - 16:30 総合質疑応答
【お申込み】
下記URLの参加お申込みフォームよりお申し込みください。
→ https://us02web.zoom.us/webinar/register/WN_x3UEwoDSTPKnZdMzYq7q-w